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三星3nm工廠即將動(dòng)工 首發(fā)GAA工藝功耗直降50%

發(fā)布時(shí)間：2022-3-11 17:26    發(fā)布者：eechina
關(guān)鍵詞： 3nm , 晶圓廠 , 三星
來源: 財(cái)聯(lián)社  

據(jù)韓國(guó)媒體報(bào)道，三星已經(jīng)準(zhǔn)備在韓國(guó)平澤市的P3工廠開工建設(shè)3nm晶圓廠了，6、7月份動(dòng)工，并及時(shí)導(dǎo)入設(shè)備。根據(jù)三星的說法，與7nm制造工藝相比，3nm GAA技術(shù)的邏輯面積效率提高了45%以上，功耗降低了50%，性能提高了約35%，紙面參數(shù)上來說卻是要優(yōu)于臺(tái)積電3nm FinFET工藝。
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