|
12月19日，日本先進(jìn)邏輯半導(dǎo)體制造商Rapidus宣布，其購入的首臺ASML TWINSCAN NXE:3800E光刻機已在位于北海道千歲市的IIM - 1晶圓廠完成交付并啟動安裝。這一事件標(biāo)志著日本首次引入用于大規(guī)模生產(chǎn)尖端半導(dǎo)體的EUV（極紫外）光刻系統(tǒng)。 在交付安裝當(dāng)天，眾多重要人物出席了在北海道新千歲機場舉行的紀(jì)念儀式，包括Rapidus首席執(zhí)行官、日本政府代表、北海道及千歲市地方政府代表、ASML高管以及荷蘭駐日本大使等。 Rapidus總裁兼首席執(zhí)行官表示：“我們非常高興能夠迎來這一里程碑式的時刻。通過引入ASML最先進(jìn)的EUV技術(shù)，我們將為客戶提供更高性能、更小尺寸的半導(dǎo)體解決方案，同時也為日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)注入新的活力。” 據(jù)悉，ASML TWINSCAN NXE:3800E是ASML EXE系列0.33 (Low) NA EUV光刻機的最新型號。該型號的光刻機能夠滿足Rapidus首代量產(chǎn)工藝2nm的制造需求。其特別之處在于與0.55 (High) NA EXE平臺共享部分組件，而且相較于之前的NXE:3600D光刻機，其晶圓吞吐量提升了37.5%。 除了核心的EUV光刻機外，Rapidus還有進(jìn)一步的生產(chǎn)布局計劃。Rapidus將在IIM - 1晶圓廠安裝一系列配套先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備以及全自動材料處理系統(tǒng)，旨在實現(xiàn)2nm制程GAA（全環(huán)繞柵極）結(jié)構(gòu)半導(dǎo)體的生產(chǎn)。如果Rapidus試產(chǎn)2nm芯片順利，還計劃在接下來的第二間工廠內(nèi)采用1.4nm工藝，屆時預(yù)計將加大EUV光刻機的購買量。 此次ASML TWINSCAN NXE:3800E光刻機在日本的交付安裝，有望提升日本在國際先進(jìn)半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的競爭力，并且對全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的布局和發(fā)展產(chǎn)生積極影響。 |
