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HBM和先進(jìn)封裝增加晶圓消耗, 預(yù)計(jì)硅片行業(yè)受益

發(fā)布時(shí)間:2024-7-3 09:53    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: HBM , 先進(jìn)封裝 , 晶圓
來源:EXPreview

隨著人工智能(AI)技術(shù)的快速發(fā)展,對芯片的需求急劇增加,推動了先進(jìn)封裝和高帶寬存儲器(HBM)技術(shù)的不斷改進(jìn),從而進(jìn)一步增加了晶圓的消耗量,預(yù)計(jì)將使硅片行業(yè)受益。

據(jù)Trendforce報(bào)道,環(huán)球晶圓(GlobalWafers)董事長兼首席執(zhí)行官徐秀蘭表示,AI芯片所需要的HBM存儲芯片,比如HBM3或者即將到來的HBM4,需要在芯片上做堆疊,層數(shù)從12層增加到16層,而且下面還需要一層基礎(chǔ)芯片,預(yù)計(jì)會大大增加晶圓的消耗。

人工智能熱潮導(dǎo)致全球HBM嚴(yán)重短缺,存儲器制造商今年和明年的產(chǎn)能已經(jīng)售罄,需要不斷加大資本投入,擴(kuò)大HBM生產(chǎn)。有業(yè)內(nèi)人士透露,與DDR5等相同容量和工藝的存儲芯片相比,HBM芯片的晶圓尺寸增加了35%到45%。與此同時(shí),HBM芯片所需要的制造工藝更為復(fù)雜,良品率比起DDR5低了20%至30%,這意味著相同的晶圓面積上生產(chǎn)出的合格芯片會更少。以上兩個(gè)因素疊加,導(dǎo)致需要更多硅片來滿足HBM的生產(chǎn)需要。

此外,先進(jìn)封裝也比以往需要更多的拋光晶圓,因?yàn)榉庋b已經(jīng)變得立體,結(jié)構(gòu)和工藝也發(fā)生了變化,一些封裝可能需要比以前多一倍的晶圓。隨著明年先進(jìn)封裝產(chǎn)能的釋放,所需的晶圓數(shù)量會有更為明顯的增長。目前可以看到像臺積電(TSMC)的CoWoS封裝變得更加流行,處于供不應(yīng)求的狀態(tài)已經(jīng)很長一段時(shí)間了。

過去隨著先進(jìn)半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展和應(yīng)用,芯片尺寸縮小,降低了晶圓的消耗,F(xiàn)在因?yàn)槿斯ぶ悄芎?D封裝的推動、導(dǎo)致了晶圓使用量的增加,從而促進(jìn)了硅片行業(yè)的發(fā)展。值得注意的是,在硅晶圓發(fā)展的同時(shí),HBM和先進(jìn)封裝技術(shù)對質(zhì)量、平整度和純度提出了更高的要求。這也將促使硅片制造商做出相應(yīng)的調(diào)整,以應(yīng)對業(yè)界的發(fā)展趨勢。
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