“預計在未來的5年內(nèi),國內(nèi)將有超過10家以上的晶圓廠擴產(chǎn)。”有業(yè)內(nèi)人士透露,對于老牌的晶圓代工企業(yè)—臺積電,國內(nèi)晶圓廠客戶則采取緊盯的設備采購戰(zhàn)術(shù)策略。 據(jù)悉,國內(nèi)客戶計劃采購臺積電先進制程產(chǎn)線,如引進其新世代7/10納米制程設備,推出類似臺積電的高良率、快交期的優(yōu)質(zhì)服務(TSMC Like),以率先搶占市場份額。而臺積電的舊世代設備,也是國內(nèi)客戶爭取的對象。 該人士強調(diào),這樣戰(zhàn)術(shù)策略,確保了國內(nèi)客戶在引起臺積電新世代設備失敗后,也能爭取到舊世代設備的訂單。 臺積電新世代7/10納米制程備受矚目 鑒于國內(nèi)半導體供應鏈市場過于依賴臺積電,所以TSMC Like(臺積電高良率、快交期的優(yōu)質(zhì)服務)以及擴展至設備采購、材料、設計服務和IP等領(lǐng)域,自然成為客戶爭相購入的對象。如果國內(nèi)客戶(設備供應商)能搶下臺積電新世代7/10納米制程訂單,將有助于爭取到更多設備采購客戶的訂單,未來的業(yè)績報表也是相當可觀的。 臺積電掌門人張忠謀董事長表示,2016年下半年的半導體市場值得期待,目前對于7/10納米線程的研發(fā)和裝機也在有條不紊地進行中。對于頗受矚目的7/10納米線程,張董事長則透露,其先進程度超乎預期。與此同時,臺積電也開始對晶圓廠生產(chǎn)自動化進行布局。 佳能、尼康、ASML參戰(zhàn) 相對于臺積電的一枝獨秀,其他晶圓設備廠商也在暗地里摩拳擦掌,其中就有佳能(canon)的納米壓印(NIL)技術(shù)、尼康(Nikon)的i-Line與KrF等二種曝光設備以及艾斯摩爾(ASML)的12寸晶圓與雙重曝光(Twinscan)設備。 佳能、尼康、艾斯摩爾ASML參戰(zhàn)的背景除了臺積電的一路領(lǐng)先之外,還有自身設備技術(shù)的落后。要知道,自1980年以來,尼康推出的曝光裝置連續(xù)多年占領(lǐng)80%以上的市場份額(2004年ASML的雙重曝光設備慢慢縮短競爭差距);而佳能更是在試用ArF浸潤裝置技術(shù)后,專注于i-Line與KrF等二種曝光設備的舊技術(shù)上。 為了重新?lián)屨际袌,佳能和艾斯摩爾將沖洗投入到ArF浸潤設備、極紫外光(EUV)技術(shù),18寸晶圓上。尼康則改進了ArF浸潤裝置的18寸晶圓技術(shù),加速納米壓印技術(shù)發(fā)展。2015年,佳能率先宣傳成功掌握11納米線路的納米壓印技術(shù)。 而這場無硝煙的戰(zhàn)爭,才剛剛開始。 感謝芯易網(wǎng)供稿
|