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荷蘭政府公布浸潤式DUV光刻機出口新規(guī)

發(fā)布時間:2024-9-9 14:54    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: 荷蘭 , DUV , 光刻機 , ASML
9月7日,荷蘭政府正式公布了關(guān)于浸潤式深紫外(DUV)光刻機出口的新規(guī)定,標志著全球半導(dǎo)體行業(yè)格局迎來新一輪調(diào)整。根據(jù)這一新規(guī),全球光刻機巨頭阿斯麥(ASML)在出口其TWINSCAN NXT:1970i和1980i兩款中等系列DUV光刻機時,需向荷蘭政府申請出口許可證,而非此前的美國政府。該新規(guī)自今日起生效,將對全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈產(chǎn)生深遠影響。

荷蘭貿(mào)易部長雷內(nèi)特·克萊弗在宣布這一決定時表示:“隨著技術(shù)的不斷進步,這些特定生產(chǎn)機器的出口確實可能涉及更多的敏感信息和技術(shù)泄露風(fēng)險。出于安全考慮,我們決定加強對這些設(shè)備的出口管制。”她同時強調(diào),這一決策并非針對任何特定國家,而是基于技術(shù)進步帶來的安全風(fēng)險的全面評估。

阿斯麥作為全球領(lǐng)先的光刻機供應(yīng)商,其產(chǎn)品在全球半導(dǎo)體制造中占據(jù)重要地位。根據(jù)新規(guī),ASML需要為其TWINSCAN NXT:1970i和1980i兩款中等系列DUV光刻機向荷蘭政府申請出口許可證,而不是之前一直負責(zé)審批的美國政府。ASML迅速對此作出回應(yīng),表示將積極適應(yīng)新規(guī)定,并相信這一調(diào)整將使出口許可證的發(fā)放方式更加協(xié)調(diào)統(tǒng)一。

ASML在一份官方聲明中指出,雖然新規(guī)可能增加公司的運營成本和時間成本,但預(yù)計不會對其2024年的財務(wù)前景或長期增長計劃產(chǎn)生重大影響。公司首席執(zhí)行官溫寧格·彼得強調(diào):“中國市場是全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈不可或缺的一部分,ASML將繼續(xù)致力于與全球客戶合作,共同推動半導(dǎo)體行業(yè)的繁榮發(fā)展!

值得注意的是,此次荷蘭政府調(diào)整出口管制政策,背后是復(fù)雜的國際博弈。近年來,美國一直試圖通過加強對全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的控制,限制競爭對手的發(fā)展。荷蘭作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的重要一環(huán),其政策調(diào)整無疑是在這一背景下作出的重要決定。然而,荷蘭政府收回出口許可證審批權(quán),也釋放出其在半導(dǎo)體芯片這一關(guān)鍵戰(zhàn)略領(lǐng)域?qū)⒏幼⒅刈陨碜灾鳈?quán)和利益的信號。

市場分析人士指出,荷蘭政府的新規(guī)可能對全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈產(chǎn)生連鎖反應(yīng)。一方面,依賴ASML光刻機的客戶可能需要重新評估供應(yīng)鏈和生產(chǎn)計劃,以適應(yīng)新的出口規(guī)定;另一方面,這也可能促使更多企業(yè)開始考慮多元化采購策略,以降低對單一供應(yīng)商的依賴。
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