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日本佳能推出納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備,可執(zhí)行電路圖案轉(zhuǎn)移

發(fā)布時(shí)間:2023-10-14 08:38    發(fā)布者:eechina
來(lái)源:財(cái)聯(lián)社

10月13日電,日本佳能公司10 月13日宣布推出FPA-1200NZ2C納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備,該設(shè)備執(zhí)行電路圖案轉(zhuǎn)移,這是最重要的半導(dǎo)體制造工藝。

據(jù)佳能介紹,傳統(tǒng)的光刻設(shè)備通過(guò)將電路圖案投射到涂有抗蝕劑的晶圓上,而新產(chǎn)品通過(guò)在晶圓上的抗蝕劑上壓印有電路圖案的掩模來(lái)實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn),就像郵票一樣。由于其電路圖案轉(zhuǎn)移過(guò)程不經(jīng)過(guò)光學(xué)機(jī)構(gòu),因此可以在晶圓上忠實(shí)地再現(xiàn)掩模上的精細(xì)電路圖案。
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