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X-FAB對(duì)其180nm APD和SPAD器件進(jìn)行重大改進(jìn),提升光子探測性能并增加其有源區(qū)面積

發(fā)布時(shí)間:2021-2-5 11:18    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: 雪崩光電二極管 , APD , 雪崩二極管 , SPAD
光電解決方案制造商X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)今日宣布,推出最新一代的雪崩光電二極管(APD)和單光子雪崩二極管(SPAD)器件。



X-FAB全新APD和SPAD采用其成熟且通過汽車認(rèn)證的180nm XH018高壓工藝。得益于創(chuàng)新的架構(gòu)改進(jìn),其與該公司的早期器件(最初于2019年中期發(fā)布)相比,性能得到顯著提升,因此可用于光照強(qiáng)度極具挑戰(zhàn)性的場景。同時(shí),新器件與上一代的外形與連接兼容性得到保留,從而確保了簡單便捷的升級(jí)途徑,而無需額外的工程工作。

性能提升最明顯的領(lǐng)域之一是光子探測概率(PDP)。405nm波長入射光PDP數(shù)值為42%,而在近紅外(NIR)頻率上的改進(jìn)幅度更進(jìn)一步,高達(dá)150%;850nm波長PDP數(shù)值為5%。此外,后脈沖概率為0.9%,與第一代器件相比降低了70%;暗計(jì)數(shù)率(DCR)僅13次/秒/μm2,當(dāng)前可支持的填充因子(有源傳感器表面積百分比)幾乎翻了一番,達(dá)到33%。

由于擊穿電壓特性可能因設(shè)備而異,因此需要精確測定來確保APD/SPAD的良好性能;谶@個(gè)原因,X-FAB內(nèi)置了一個(gè)觸發(fā)二極管,可以在無需外部光源即可實(shí)現(xiàn)精確、實(shí)時(shí)的片上擊穿電壓檢測。全新產(chǎn)品包含主動(dòng)猝滅電路,可以通過它加快SPAD器件的恢復(fù)速度,使其為進(jìn)一步光子探測做好準(zhǔn)備。得益于尺寸的靈活性(寬度和長度方面),全新SPAD帶來了更杰出的應(yīng)用適應(yīng)性。SPAD和APD器件的完整器件模型保證了首次成功(first-time-right);該模型還包括新的內(nèi)置觸發(fā)二極管行為。

“得益于提升的PDP并結(jié)合極富競爭力的DCR水平,我們向市場推出的APD/SPAD解決方案具備令人印象深刻的信號(hào)完整性特性;這將使我們的客戶在眾多應(yīng)用中獲得直接的收益,如醫(yī)療領(lǐng)域中的計(jì)算機(jī)層析成像和熒光檢測,以及工業(yè)和汽車系統(tǒng)中的ToF與激光雷達(dá)等!盭-FAB光電技術(shù)業(yè)務(wù)線經(jīng)理Detlef Sommer表示,“這些先進(jìn)的光電元件是X-FAB設(shè)計(jì)套件的寶貴補(bǔ)充,拓寬了在XH018工藝中可利用的互操作資產(chǎn)選擇范圍!

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